Hochschulschrift
Gasphasenabscheidung kristalliner Silizium-Schichten auf Keramiksubstraten mit Normaldruck-CVD
- Location
-
Deutsche Nationalbibliothek Frankfurt am Main
- ISBN
-
9783897222625
3897222620
- Dimensions
-
21 cm
- Extent
-
97 S.
- Language
-
Deutsch
- Notes
-
Ill., graph. Darst.
Zugl.: Berlin, Techn. Univ., Diss., 1999
- Keyword
-
Keramischer Werkstoff
Substrat
Silicium
APCVD-Verfahren
Epitaxie
Schichtwachstum
- Table of contents
- Rights
-
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- Last update
-
11.03.2025, 12:18 PM CET
Data provider
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Object type
- Hochschulschrift
Associated
- Ehrenwall, Birgit von
- Logos-Verl.
Time of origin
- 1999
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